ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Precision Hot Embossing Mold Fabricated by High-Resolution Powder Blasting with Polydimethylsiloxane and SU-8 Masking Technology

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Precision Hot Embossing Mold Fabricated by High-Resolution Powder Blasting with Polydimethylsiloxane and SU-8 Masking Technology
นักวิจัย : Tanom Lomas , Anurat Wisitsoraat , Fusak Chevasuwit , Adisorn Tuantranont , ถนอม โลมาศ , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , ฟูศักดิ์ ชีวสุวิทย์ , อดิสร เตือนตรานนท์
คำค้น : Electronics nanosensors technology , High-resolution , Hot embossing , Masking technology , Microstamping , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2552
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/17593
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

In this paper, we applied 3-dimensional micromold by the use of nanopowders and nanopattern masking technology. High-resolution powder blasting with polydimethylsiloxane (PDMS) and SU-8 masking is developed for fabrication of precision microfluidic mold for hot embossing fabrication. PDMS is a suitable masking material for powder blasting due to its high erosion resistance. First, 100 micrometers SU-8 negative pattern was developed on a stainless steel substrate by standard photolithography. PDMS solution was then applied on the substrate filling mainly recessed regions. Excess of PDMS was then removed physically by a blade. PDMS/SU-8 structure was then cured. Next, Silicon Carbine (SiC) powder with average diameter of 50 micrometers was blasted on PDMS/SU-8 coated stainless sheet at a constant pressure between 4-6 bars and PDMS mask was removed by ultrasonic cleaning in isopropanol. The 3-dimensional structure was examined by optical microscope, optical white light interferometer, and scanning electron microscope (SEM). The PDMS pattern is found to be 50 micrometers wide and the maximum etched depth at this thickness is around 150 micrometers at the blasting pressure of 6.2 bars, thus aspect ratio of 3 is easily obtained. In principle, the developed low-cost micromachining hot embossing mold can be improved to yield submicrometer and nanometer scale resolution.

บรรณานุกรม :
Tanom Lomas , Anurat Wisitsoraat , Fusak Chevasuwit , Adisorn Tuantranont , ถนอม โลมาศ , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , ฟูศักดิ์ ชีวสุวิทย์ , อดิสร เตือนตรานนท์ . (2552). Precision Hot Embossing Mold Fabricated by High-Resolution Powder Blasting with Polydimethylsiloxane and SU-8 Masking Technology.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Tanom Lomas , Anurat Wisitsoraat , Fusak Chevasuwit , Adisorn Tuantranont , ถนอม โลมาศ , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , ฟูศักดิ์ ชีวสุวิทย์ , อดิสร เตือนตรานนท์ . 2552. "Precision Hot Embossing Mold Fabricated by High-Resolution Powder Blasting with Polydimethylsiloxane and SU-8 Masking Technology".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Tanom Lomas , Anurat Wisitsoraat , Fusak Chevasuwit , Adisorn Tuantranont , ถนอม โลมาศ , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , ฟูศักดิ์ ชีวสุวิทย์ , อดิสร เตือนตรานนท์ . "Precision Hot Embossing Mold Fabricated by High-Resolution Powder Blasting with Polydimethylsiloxane and SU-8 Masking Technology."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2552. Print.
Tanom Lomas , Anurat Wisitsoraat , Fusak Chevasuwit , Adisorn Tuantranont , ถนอม โลมาศ , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , ฟูศักดิ์ ชีวสุวิทย์ , อดิสร เตือนตรานนท์ . Precision Hot Embossing Mold Fabricated by High-Resolution Powder Blasting with Polydimethylsiloxane and SU-8 Masking Technology. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2552.