ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Study of Optimization Condition for Spin Coating of the Photoresist Film on 3 Inches Wafer by Taguchi Design of Experiment

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Study of Optimization Condition for Spin Coating of the Photoresist Film on 3 Inches Wafer by Taguchi Design of Experiment
นักวิจัย : Nithi Atthi , Chuckaphun Aramphongphun , Patcharaporn Yanpirat , Peerayuth Charnsetthikul , Wutthinan Jeamsaksiri , นิธิ อัตถิ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , พัชราภรณ์ ญาณภิรัต , พีรยุทธ์ ชาญเศรษฐ์กุล , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ
คำค้น : Air Bearing Surface , Engineering and technology , Hard disks (Computer science) , Manufacturing engineering , Photolithography , Photoresist , spin coating , Surface technology , Taguchi DOE method , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ , สาขาวิทยาศาสตร์เคมีและเภสัช , สารเคลือบ , เทคนิคทากูชิ
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2551
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/16834
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

This paper reports the study in suitable conditions of 5 parameters in order to spin coat positive photoresist AZ-P4620 on 3 inches silicon wafers. The design of experiments (DOE) is Taguchi L16(45) which can reduce number of experiments from 1024 to 16. By analyzing the main impact plot of signal to noise ratio (SNR or S/N), it is found that the most suitable values of the 5 parameters that give the desired thickness and uniformity is photoresist dispense time of 25 seconds then spin at the speed of 500 rpm for 5 seconds, accelerate the spin speed at 200 rpm per seconds until the speed reaches 1500 rpm. The speed is maintained at 1500 rpm for 60 seconds with the exhaust pressure of 300 Pascal. The wafer is later baked at 100oC for 90 seconds. The calculated thickness of the final film is 70274±908.233 Angstroms. This DOE can be applied to the Air Bearing Surface (ABS) of a read/write heads in the hard disk drive industry.

บรรณานุกรม :
Nithi Atthi , Chuckaphun Aramphongphun , Patcharaporn Yanpirat , Peerayuth Charnsetthikul , Wutthinan Jeamsaksiri , นิธิ อัตถิ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , พัชราภรณ์ ญาณภิรัต , พีรยุทธ์ ชาญเศรษฐ์กุล , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ . (2551). Study of Optimization Condition for Spin Coating of the Photoresist Film on 3 Inches Wafer by Taguchi Design of Experiment.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Nithi Atthi , Chuckaphun Aramphongphun , Patcharaporn Yanpirat , Peerayuth Charnsetthikul , Wutthinan Jeamsaksiri , นิธิ อัตถิ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , พัชราภรณ์ ญาณภิรัต , พีรยุทธ์ ชาญเศรษฐ์กุล , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ . 2551. "Study of Optimization Condition for Spin Coating of the Photoresist Film on 3 Inches Wafer by Taguchi Design of Experiment".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Nithi Atthi , Chuckaphun Aramphongphun , Patcharaporn Yanpirat , Peerayuth Charnsetthikul , Wutthinan Jeamsaksiri , นิธิ อัตถิ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , พัชราภรณ์ ญาณภิรัต , พีรยุทธ์ ชาญเศรษฐ์กุล , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ . "Study of Optimization Condition for Spin Coating of the Photoresist Film on 3 Inches Wafer by Taguchi Design of Experiment."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2551. Print.
Nithi Atthi , Chuckaphun Aramphongphun , Patcharaporn Yanpirat , Peerayuth Charnsetthikul , Wutthinan Jeamsaksiri , นิธิ อัตถิ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , พัชราภรณ์ ญาณภิรัต , พีรยุทธ์ ชาญเศรษฐ์กุล , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ . Study of Optimization Condition for Spin Coating of the Photoresist Film on 3 Inches Wafer by Taguchi Design of Experiment. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2551.