ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Optimization of Carbon Doped Molybdenum Oxide Thin Film Coating Process Using Designed

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Optimization of Carbon Doped Molybdenum Oxide Thin Film Coating Process Using Designed
นักวิจัย : Charnnarong Saikaew , Anurat Wisitsoraat , Rangsarit Sootticoon , ชาญณรงค์ สายแก้ว , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , รังสฤษฏ์ สุทธิคุณ
คำค้น : Carbon doped Molybdenum oxide , Central composite design , Desirability function , Nanoparticle coating technology , Response surface analysis , Sputtering process , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2553
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/16051
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

In this work, central composite design (CCD) is applied to study carbon doped MoOx thin film deposition by sputtering process. The CCD based experimental study is made by varying four controllable input process factors including radio frequency (r.f.) power, operating pressure, argon to oxygen flow ratio, and carbon doping gas to oxygen flow ratio and output responses are deposition rate and surface roughness. Response surface methodology (RSM) with desirability function is used to determine an optimum sputtering condition that simultaneously maximizes the deposition rate and surface roughness of carbon doped MoOx thin film coating. Empirical models derived from regression analyses for deposition rate and surface roughness are found to be second order functions of these four process factors. From RSM analysis with desirability function, the optimal operating condition for carbon doped MoOx thin film coating that produces a maximum deposition rate of 8.4 nm/minute and a maximum surface roughness of 41.7 nm is obtained at r.f. power of 150 watts, operating pressure of 0.8 Pa, argon to oxygen flow ratio of 0.59, and carbon doping gas flow ratio of 0.08 with the overall desirability of 64%.

บรรณานุกรม :
Charnnarong Saikaew , Anurat Wisitsoraat , Rangsarit Sootticoon , ชาญณรงค์ สายแก้ว , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , รังสฤษฏ์ สุทธิคุณ . (2553). Optimization of Carbon Doped Molybdenum Oxide Thin Film Coating Process Using Designed.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Charnnarong Saikaew , Anurat Wisitsoraat , Rangsarit Sootticoon , ชาญณรงค์ สายแก้ว , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , รังสฤษฏ์ สุทธิคุณ . 2553. "Optimization of Carbon Doped Molybdenum Oxide Thin Film Coating Process Using Designed".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Charnnarong Saikaew , Anurat Wisitsoraat , Rangsarit Sootticoon , ชาญณรงค์ สายแก้ว , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , รังสฤษฏ์ สุทธิคุณ . "Optimization of Carbon Doped Molybdenum Oxide Thin Film Coating Process Using Designed."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2553. Print.
Charnnarong Saikaew , Anurat Wisitsoraat , Rangsarit Sootticoon , ชาญณรงค์ สายแก้ว , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , รังสฤษฏ์ สุทธิคุณ . Optimization of Carbon Doped Molybdenum Oxide Thin Film Coating Process Using Designed. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2553.