ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Effects of rf-power and working pressure on formation of rutile phase in rf-sputtered TiO2 thin film

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Effects of rf-power and working pressure on formation of rutile phase in rf-sputtered TiO2 thin film
นักวิจัย : Somsak Dangtip , N. Sripongphan , Narong Boonyopakorn , Chanchana Thanachayanont , สมศักดิ์ แดงติ๊บ , นิธิ ศรีพงษ์พันธ์ , ณรงค์ บุญโยภากร , ชัญชณา ธนชยานนท์
คำค้น : Nanoparticle coating technology , rf-Power , Thin film , TiO2; rf-Sputtering , Working pressure , ศูนย์เทคโนโลยีโลหะและวัสดุแห่งชาติ
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2552
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/15781
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

Thin TiO2 films have been deposited on glass substrates by a radio-frequency (rf) magnetron sputtering technique. The films were coated under argon atmosphere at three different rf-powers: 80, 100 and 120 W, and three working pressures: 1.0 × 10−2, 2.5 × 10−3 and 1.0 × 10−3 mbar. Film structures were analyzed with XRD. At 100 and 120 W, films coated under low working pressure have developed the rutile phase with the preferred (1 1 0) orientation. However, at 80 W, the films have been observed only in an amorphous phase for all working pressures. This effect could be understood as sputtered TiO2 molecules were more energetic at high rf-powers and encountered fewer collisions at low pressure before deposited onto the substrates. The films have also been annealed at 773 or 873 K. The post-deposition annealing has significantly improved crystallization of the TiO2 films. In this contribution, results on optical and wetting properties of these films are also reported.

บรรณานุกรม :
Somsak Dangtip , N. Sripongphan , Narong Boonyopakorn , Chanchana Thanachayanont , สมศักดิ์ แดงติ๊บ , นิธิ ศรีพงษ์พันธ์ , ณรงค์ บุญโยภากร , ชัญชณา ธนชยานนท์ . (2552). Effects of rf-power and working pressure on formation of rutile phase in rf-sputtered TiO2 thin film.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Somsak Dangtip , N. Sripongphan , Narong Boonyopakorn , Chanchana Thanachayanont , สมศักดิ์ แดงติ๊บ , นิธิ ศรีพงษ์พันธ์ , ณรงค์ บุญโยภากร , ชัญชณา ธนชยานนท์ . 2552. "Effects of rf-power and working pressure on formation of rutile phase in rf-sputtered TiO2 thin film".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Somsak Dangtip , N. Sripongphan , Narong Boonyopakorn , Chanchana Thanachayanont , สมศักดิ์ แดงติ๊บ , นิธิ ศรีพงษ์พันธ์ , ณรงค์ บุญโยภากร , ชัญชณา ธนชยานนท์ . "Effects of rf-power and working pressure on formation of rutile phase in rf-sputtered TiO2 thin film."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2552. Print.
Somsak Dangtip , N. Sripongphan , Narong Boonyopakorn , Chanchana Thanachayanont , สมศักดิ์ แดงติ๊บ , นิธิ ศรีพงษ์พันธ์ , ณรงค์ บุญโยภากร , ชัญชณา ธนชยานนท์ . Effects of rf-power and working pressure on formation of rutile phase in rf-sputtered TiO2 thin film. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2552.