ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

การพัฒนากระบวนการถ่ายย่อแบบเพื่อสร้างสเตรนเกจของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : การพัฒนากระบวนการถ่ายย่อแบบเพื่อสร้างสเตรนเกจของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด
นักวิจัย : ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์
คำค้น : กระจกต้นแบบ , กระบวนการถ่ายย่อแบบ , การเคลือบฟิล์มไวแสง , มาสก์ , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2550
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/11020
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

กระบวนการถ่ายย่อแบบ (Lithography) เป็นขั้นตอนสำคัญในการผลิต เซนเซอร์วัดแรงดันเลือด (Blood pressure sensor) เพื่อกำหนดลวดลายลงบนแผ่นซิลิกอนเวเฟอร์ (Silicon wafer) เคลือบฟิล์มไวแสง (Photoresist) ก่อนเข้าสู่กระบวนการอื่น ดังนั้นการสร้างลวดลายในแต่ละชั้นโดยอาศัยข้อมูลจากมาสก์ (Mask information) ต้องให้ผลการซ้อนทับของลวดลายตรงตามการออกแบบ โครงสร้างสเตรนเกจ (Strain gauge) เป็นโครงสร้างสำคัญที่จะแสดงถึงการเปลี่ยนแปลงความต้านทานเนื่องมาจากความเครียดในเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด การสร้างสเตรนเกจบนแผ่นเวเฟอร์ที่มีโพลีซิลิกอนเมมเบรน ต้องใช้กระบวนการถ่ายย่อแบบเพื่อทำลวดลายที่เรียกว่า TOJ ซึ่งเป็นลวดลายลำดับที่สี่ในการสร้างเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด แต่จากการทำโครงสร้างโพลีซิลิกอนเมมเบรน ที่ผ่านมา 3 ลำดับลวดลาย (KAV, ETSK, OPP ) พบว่า Mask information ในส่วนของค่า Center shift ที่ใช้จริงกับค่าที่ได้มาจาก Mask information มีความแตกต่างกันมาก หากการทำชั้น TOJ ใช้วิธีเลื่อน Center shift ไปเรื่อยๆจนกว่าจะตรงกัน จะทำให้แผ่นที่ลวดลายซ้อนทับไม่ตรง ต้องผ่านการลอกฟิล์มไวแสงและนำกลับมาเข้ากระบวนการถ่ายย่อแบบใหม่ การทำซ้ำเช่นนี้จะทำให้เวลาของกระบวนการเพิ่มขึ้น และทิ้งข้อบกพร่องไว้บนแผ่นเวเฟอร์อีกด้วย จึงทำการตรวจสอบสาเหตุที่แท้จริงที่ทำให้ Center shift ที่ใช้จริงมีค่าต่างจากข้อมูลที่กำหนดมา การตรวจสอบทำโดยตั้งสมมติฐานขึ้นสองสมมติฐาน สมมติฐานแรกตำแหน่งลวดลายบนมาสก์ผิดเพี้ยนเนื่องจากขั้นตอนการจัดวาง Mask layout ก่อนการสร้างมาสก์ สมมติฐานที่สอง Mask information ที่กำหนดมาให้กระบวนการถ่ายย่อแบบผิดพลาด ผลการทดสอบพบว่าสาเหตุที่ทำให้ Center shift ต่างกันมาก มาจาก Mask information ในส่วนของตำแหน่ง Alignment mark ที่ระบุตำแหน่งผิดพลาด เมื่อตำแหน่งอ้างอิงเหล่านี้ผิดพลาดทำให้ต้องมีการเลื่อน Center shift เพื่อให้ลวดลายมีการซ้อนทับกันพอดี เมื่อทราบสาเหตุแล้วจึงได้ทำการหา Mask information ที่ถูกต้องสำหรับ ชั้น TOJ ใหม่และทำการทดสอบด้วยเทคนิคการฉายแสงซ้ำบนแผ่นทดสอบ (Double exposure on bare silicon wafer) ก่อนทำชั้น TOJ บนแผ่นจริง ในการสร้างโครงสร้างสเตรนเกจ (TOJ)ครั้งนี้ นอกจากใช้ Mask information ที่ถูกต้องแล้ว พารามิเตอร์ของการเคลือบฟิล์มไวแสง ใช้โปรแกรม 20000a ที่ให้ความหนาของฟิล์มไวแสง 2000 นาโนเมตร พารามิเตอร์ของการฉายแสง ใช้โปรแกรมการฉายแสง @RADI2.TOJ ค่าพลังงาน 480 msec ค่าโฟกัส 0.0 ไมครอน พารามิเตอร์ของการล้างฟิล์มไวแสง ใช้โปรแกรม op75 ที่ให้เวลาในการสัมผัสน้ำยาล้างฟิล์มไวแสง นาน 75 วินาที

บรรณานุกรม :
ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ . (2550). การพัฒนากระบวนการถ่ายย่อแบบเพื่อสร้างสเตรนเกจของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ . 2550. "การพัฒนากระบวนการถ่ายย่อแบบเพื่อสร้างสเตรนเกจของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ . "การพัฒนากระบวนการถ่ายย่อแบบเพื่อสร้างสเตรนเกจของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2550. Print.
ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ . การพัฒนากระบวนการถ่ายย่อแบบเพื่อสร้างสเตรนเกจของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2550.