ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

กระบวนการถ่ายย่อแบบ และ Alignment Mark เพื่อสร้างชั้นตัวนำของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : กระบวนการถ่ายย่อแบบ และ Alignment Mark เพื่อสร้างชั้นตัวนำของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด
นักวิจัย : ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์
คำค้น : กระจกต้นแบบ , กระบวนการถ่ายย่อแบบ , การล้างฟิล์ม , การเคลือบฟิล์มไวแสง , มาสก์ , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2550
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/10975
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

กระบวนการถ่ายย่อแบบ (Lithography) เป็นขั้นตอนสำคัญในการผลิตเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด (Blood pressure sensor) เพื่อกำหนดลวดลายลงบนแผ่นซิลิกอนเวเฟอร์ (Silicon wafer) เคลือบฟิล์มไวแสง (Photoresist) ก่อนเข้าสู่กระบวนการอื่น ดังนั้นการสร้างลวดลายในแต่ละชั้นต้องให้ผลการซ้อนทับของลวดลายตรงตามการออกแบบ สิ่งที่จะเป็นตัวกำหนดการซ้อนทับกันเรียกว่า Alignment mark ซึ่งเป็นโครงสร้างเฉพาะที่ออกแบบให้สอดคล้องกับกับเครื่องจักรและกระบวนการผลิตชั้นโลหะตัวนำ (Conductors) เป็นโครงสร้างสำคัญที่ต่อเชื่อมสเตรนเกจ (Starin Gauges) เพื่อแสดงถึงการเปลี่ยนแปลงความต้านทานเนื่องมาจากความเครียดในเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด การสร้างชั้นตัวนำบนแผ่นเวเฟอร์ที่มีสเตรนเกจ ต้องใช้กระบวนการถ่ายย่อแบบเพื่อทำลวดลายที่เรียกว่า KONT (Contact holes) เพื่อเปิดชั้นฉนวนลงไปสัมผัสสเตรนเกจ ก่อนเติมชั้นฟิล์มโลหะจากนั้นจึงทำลวดลายชั้น MET (Metal1) เพื่อกำหนดลวดลายชั้นตัวนำ การถ่ายย่อแบบชั้น KONT และ MET เป็นการสร้างลวดลายลำดับที่ 5 และ 6 ลงบนเวเฟอร์ที่ผ่านการทำลวดลายมาแล้วหลายชั้น พื้นผิวของเวเฟอร์ดังกล่าวจะมีความสูงต่ำของโครงสร้าง(Topography)แตกต่างกันออกไป ส่งผลให้เกิดความซับซ้อนในการเลือกใช้ Alignment mark ที่เหมาะสม เพื่อลดความซับซ้อนการเลือกใช้ Alignment mark และเป็นการทดสอบยืนยันค่า Mask information ที่เคยสร้างปัญหาในการสร้างลวดลายลำดับที่ 1 ถึง ลำดับที่ 4 ( KAV ETSK OPP และ TOJ ) จึงมีการนำแผ่นทดสอบ (Dummy wafer) มาทดลองสร้างลวดลายก่อน ผลจากการทดลองพบว่าค่า Mask information ที่คำนวณจากการออกแบบโครงสร้างทางกายภาพ (Layout design) เป็นค่าที่ถูกต้อง แต่ Alignment mark ที่ใช้งานได้บนแผ่นทดสอบต่างจากบนแผ่นจริง (Production wafer) เนื่องจาก แผ่นทั้งสองชนิดมี Topography แตกต่างกัน ในการสร้างชั้น KONT และ MET ครั้งนี้ นอกจากใช้ Mask information และ Alignment mark ที่ถูกต้องแล้ว พารามิเตอร์ของการเคลือบฟิล์มไวแสงสำหรับทั้งสองลวดลายใช้โปรแกรมเดียวกันชื่อ 20000a ที่ให้ความหนาของฟิล์มไวแสง 2000 นาโนเมตร ส่วนพารามิเตอร์ของการฉายแสงของชั้น KONTใช้โปรแกรมการฉายแสง @RADI2.CONT ค่าพลังงาน 480 msec ค่าโฟกัส 0.0 ไมครอน พารามิเตอร์ของการฉายแสงของชั้น MET ใช้โปรแกรมการฉายแสง @RADI2.MET ค่าพลังงาน 320 msec ค่าโฟกัส 0.0 ไมครอน พารามิเตอร์ของการล้างฟิล์มไวแสงทั้งสองลวดลายใช้โปรแกรมเดียวกันชื่อโปรแกรม op75 ที่ให้เวลาในการสัมผัสน้ำยาล้างฟิล์มไวแสง นาน 75 วินาที

บรรณานุกรม :
ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ . (2550). กระบวนการถ่ายย่อแบบ และ Alignment Mark เพื่อสร้างชั้นตัวนำของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ . 2550. "กระบวนการถ่ายย่อแบบ และ Alignment Mark เพื่อสร้างชั้นตัวนำของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ . "กระบวนการถ่ายย่อแบบ และ Alignment Mark เพื่อสร้างชั้นตัวนำของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2550. Print.
ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ . กระบวนการถ่ายย่อแบบ และ Alignment Mark เพื่อสร้างชั้นตัวนำของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2550.