ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

สูตรการเลือกกัดคุณภาพสูงระหว่างซิลิคอนไดออกไซด์กับซิลิคอนสำหรับเครื่องกัดแบบ RIE

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : สูตรการเลือกกัดคุณภาพสูงระหว่างซิลิคอนไดออกไซด์กับซิลิคอนสำหรับเครื่องกัดแบบ RIE
นักวิจัย : จักรพงศ์ ศุภเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย , โอภาส ตรีทวีศักดิ์
คำค้น : Selectivity , Silicon , Silicon dioxide , การเลือกกัด , ซิลิคอน , ซิลิคอนไดออกไซด์ , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2551
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/10567
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

รายงานฉบับนี้แสดงถึงสูตรที่สามารถใช้กัดซิลิคอนไดออกไซด์ด้วยเครื่อง RIE ยี่ห้อ Applied Material รุ่น P-5000 โดยสูตรที่จะกล่าวถึงนั้นได้รับการพัฒนาให้มีค่าการเลือกกัดที่สูงถึง 14.72 : 1(SiO2 : Si) เมื่อเทียบกับสูตรเดิมที่ศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์มีอยู่ ณ ปัจจุบัน ซึ่งมีค่าเพียง 12.83 : 1 เท่านั้น

บรรณานุกรม :
จักรพงศ์ ศุภเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย , โอภาส ตรีทวีศักดิ์ . (2551). สูตรการเลือกกัดคุณภาพสูงระหว่างซิลิคอนไดออกไซด์กับซิลิคอนสำหรับเครื่องกัดแบบ RIE.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
จักรพงศ์ ศุภเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย , โอภาส ตรีทวีศักดิ์ . 2551. "สูตรการเลือกกัดคุณภาพสูงระหว่างซิลิคอนไดออกไซด์กับซิลิคอนสำหรับเครื่องกัดแบบ RIE".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
จักรพงศ์ ศุภเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย , โอภาส ตรีทวีศักดิ์ . "สูตรการเลือกกัดคุณภาพสูงระหว่างซิลิคอนไดออกไซด์กับซิลิคอนสำหรับเครื่องกัดแบบ RIE."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2551. Print.
จักรพงศ์ ศุภเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย , โอภาส ตรีทวีศักดิ์ . สูตรการเลือกกัดคุณภาพสูงระหว่างซิลิคอนไดออกไซด์กับซิลิคอนสำหรับเครื่องกัดแบบ RIE. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2551.