ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

การสร้างส่วนเชื่อมต่อของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือดด้วยกระบวนการถ่ายย่อแบบ

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : การสร้างส่วนเชื่อมต่อของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือดด้วยกระบวนการถ่ายย่อแบบ
นักวิจัย : จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์
คำค้น : กระจกต้นแบบ , กระบวนการถ่ายย่อแบบ , การล้างฟิล์ม , การเคลือบฟิล์มไวแสง , มาสก์ , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2551
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/10546
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

เซนเซอร์วัดแรงดันเลือด (Blood pressure sensor) เป็นส่วนหัววัด สร้างขึ้นโดย TMEC นำไปใช้งานจริง ประกอบเข้ากับอุปกรณ์วัดความดันในหลอดเลือดหัวใจ โดยบริษัท RADI ตัวหัวเซนเซอร์ สร้างขึ้นบนแผ่นซิลิกอนเวเฟอร์ (Silicon wafer) ด้วยกระบวนการไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ที่ประกอบไปด้วยกระบวนการหลายขั้นตอน กระบวนการถ่ายย่อแบบ (Lithography) เป็นวิธีเดียวในการผลิต ที่สามารถกำหนดลวดลายลงบนแผ่นซิลิกอนเวเฟอร์ ก่อนเข้าสู่กระบวนการอื่น โดยลวดลายต้องมีขนาดรูปร่าง และการซ้อนทับของลวดลายตรงตามการออกแบบ การสร้างส่วนเชื่อมต่อของ เซนเซอร์วัดแรงดันเลือด หรือ Back-end สำหรับ Cavity area ต้องผ่านกระบวนการถ่ายย่อแบบ ทำลวดลาย 3 ขั้นตอนคือ KAV2 (First etching of the membrane) เพื่อเปิดช่องบนชั้นฉนวนไนไตรด์ กับออกไซด์ ถัดมาคือ TUNN (Second etching of the membrane) เพื่อเปิดชั้นฉนวนชั้นถัดไป และ PAD ( Opening down to the membrane ) เพื่อเจาะชั้นฉนวนลึกลงไปถึงส่วนเมมเบรนของเซนเซอร์ การถ่ายย่อแบบชั้น KAV2 TUNN และ PAD เป็นการสร้างลวดลายลำดับที่ 7 , 8 และ 9 ลงบนเวเฟอร์ที่ผ่านการทำลวดลายมาแล้วหลายชั้น โดยชั้นบนสุดคือชั้นโลหะ พื้นผิวของเวเฟอร์ดังกล่าวจะมีความสูงต่ำของโครงสร้าง(Topography)มาก อีกทั้งมีการสะท้อนแสงสูง ส่งผลให้เกิดความซับซ้อนในการเลือกใช้ Alignment mark เพื่อลดความผิดพลาดในการเลือกใช้ Alignment mark และเป็นการทดสอบยืนยันค่า Mask information ที่เคยสร้างปัญหาในการสร้างลวดลายลำดับที่ 1 ถึง ลำดับที่ 4 ( KAV ETSK OPP และ TOJ ) จึงมีการนำแผ่นทดสอบ (Dummy wafer) มาทดลองสร้างลวดลายก่อน ผลจากการทดลองพบว่าค่า Mask information ที่คำนวณจากการออกแบบโครงสร้างทางกายภาพ (Layout design) เป็นค่าที่ถูกต้อง และการทำลวดลายชั้น KAV2 เหนือชั้นโลหะต้องใช้ระบบ FIA ของ Stepper เพื่อลดปัญหาการรบกวนจากการสะท้อนแสงของพื้นผิวโลหะ จึงนำข้อมูลดังกล่าวมาผลิต แผ่น Production wafer ในการสร้างทำลวดลาย 3 ขั้นตอน ดังนี้ การเคลือบฟิล์มไวแสงใช้โปรแกรมเดียวกันชื่อ 20000a ที่ให้ความหนาของฟิล์มไวแสง 2000 นาโนเมตร ส่วนพารามิเตอร์ของการฉายแสงของชั้น KAV2 ใช้โปรแกรมการฉายแสง @RADI2.KAV2 ค่าพลังงาน 490 msec ค่าโฟกัส 0.0 ไมครอน พารามิเตอร์ของการฉายแสงของชั้น TUNN ใช้โปรแกรมการฉายแสง @RADI2.TUNN ค่าพลังงาน 490 msec ค่าโฟกัส 0.0 ไมครอน พารามิเตอร์ของการฉายแสงของชั้น PAD ใช้โปรแกรมการฉายแสง @RADI2.PAD ค่าพลังงาน 490 msec ค่าโฟกัส 0.0 ไมครอน และทั้งสามลวดลายใช้โปรแกรมการล้างฟิล์มไวแสงเดียวกัน ชื่อโปรแกรม op75 ที่ใช้เวลาในการสัมผัสน้ำยาล้างฟิล์มไวแสง นาน 75 วินาที

บรรณานุกรม :
จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ . (2551). การสร้างส่วนเชื่อมต่อของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือดด้วยกระบวนการถ่ายย่อแบบ.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ . 2551. "การสร้างส่วนเชื่อมต่อของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือดด้วยกระบวนการถ่ายย่อแบบ".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ . "การสร้างส่วนเชื่อมต่อของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือดด้วยกระบวนการถ่ายย่อแบบ."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2551. Print.
จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อนุชา เรืองพานิช , อัมพร โพธิ์ใย , เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ . การสร้างส่วนเชื่อมต่อของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือดด้วยกระบวนการถ่ายย่อแบบ. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2551.