ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

กระบวนการสร้างชั้นลายวงจรเพื่อผลิตอุปกรณ์หน่วยความจำของโครงการ ASTRI-2

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : กระบวนการสร้างชั้นลายวงจรเพื่อผลิตอุปกรณ์หน่วยความจำของโครงการ ASTRI-2
นักวิจัย : จักรพงศ์ ศุภเดช , จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย
คำค้น : ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2551
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/10450
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

การสร้างอุปกรณ์หน่วยความจำ สร้างโดยใช้กระบวนการถ่ายย่อแบบผ่านกระจกต้นแบบลายวงจรย่อขนาดลงบนแผ่นเวเฟอร์ขนาด 6 นิ้ว ด้วยกระบวนการต่างๆ มากมายเช่นกระบวนการปลูกฟิล์ม, กระบวนการถ่ายย่อแบบลายวงจร, กระบวนการกัดชั้นลายวงจรเป็นต้น โดยในกระบวนการสร้างจะสร้างลวดลายบนชั้นฟิล์มต่างๆ ทั้งหมด 5 ชั้นลายคือ Metal 1, Via, Via-Shift, Metal 2, PAD ซึ่งลายวงจรในแต่ละชั้นจะมีลักษณะเป็นช่องเปิด และมีลักษณะเป็นเกาะ ซึ่งในกระบวนการสร้างอุปกรณ์หน่วยความจำนั้น จะเริ่มต้นสร้างในกระบวนการปลูกชั้นฟิล์มโลหะ (Front end process) โดยในการสร้างอุปกรณ์หน่วยความจำนี้ สามารถสร้างในกระบวนการผลิตซีมอส 0.8 ไมครอนได้

บรรณานุกรม :
จักรพงศ์ ศุภเดช , จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย . (2551). กระบวนการสร้างชั้นลายวงจรเพื่อผลิตอุปกรณ์หน่วยความจำของโครงการ ASTRI-2.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
จักรพงศ์ ศุภเดช , จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย . 2551. "กระบวนการสร้างชั้นลายวงจรเพื่อผลิตอุปกรณ์หน่วยความจำของโครงการ ASTRI-2".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
จักรพงศ์ ศุภเดช , จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย . "กระบวนการสร้างชั้นลายวงจรเพื่อผลิตอุปกรณ์หน่วยความจำของโครงการ ASTRI-2."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2551. Print.
จักรพงศ์ ศุภเดช , จักรรินทร์ ลัทธิเดช , ชาญเดช หรูอนันต์ , ภาวดี มีสรรพวงศ์ , รัตนาวรรณ เมนะเนตร , อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ , อัมพร โพธิ์ใย . กระบวนการสร้างชั้นลายวงจรเพื่อผลิตอุปกรณ์หน่วยความจำของโครงการ ASTRI-2. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2551.