ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Study of Optimization Patterning Size in Photolithography Process by Using Linear Programming Method for Superhydrophobic Surface

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Study of Optimization Patterning Size in Photolithography Process by Using Linear Programming Method for Superhydrophobic Surface
นักวิจัย : Nithi Atthi , On-uma Nimittrakoolchai , Panruthai Duagnum , Sitthisuntorn Supothina , Charndet Hruanun , Amporn Poyai , นิธิ อัตถิ , อรอุมา นิมิตรตระกูลชัย , สิทธิสุนทร สุโพธิณะ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย
คำค้น : Engineering and technology , Linear programming , Manufacturing engineering , Photolithography , Superhydrophobic surface , Surface technology , การสร้างลายวงจรด้วยแสง , การโปรแกรมเชิงเส้น , พื้นผิวที่มีการกระจายตัวไม่ดีอย่างยิ่งยวด , ศูนย์เทคโนโลยีโลหะและวัสดุแห่งชาติ
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2551
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/6751
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

There are many techniques to generate a superhydrophobic surface but all the techniques require low surface energy and rough surface. One of the most popular techniques for creating rough surface is a photolithography which produces a small pattern on a material surface of which a contact angle between water droplet and substrate surface can be calculated by using Wenzel’s and Cassie’s models. The calculation by using an Excel Solver showed that the Wenzel’s model gave highest contact angle on a pattered polydimethylsiloxane (PDMS) of 170.2 degrees while the Cassie’s model gave the highest contact angle of 170.9 degrees. Finally, these optimized conditions will be experimentally verified

บรรณานุกรม :
Nithi Atthi , On-uma Nimittrakoolchai , Panruthai Duagnum , Sitthisuntorn Supothina , Charndet Hruanun , Amporn Poyai , นิธิ อัตถิ , อรอุมา นิมิตรตระกูลชัย , สิทธิสุนทร สุโพธิณะ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย . (2551). Study of Optimization Patterning Size in Photolithography Process by Using Linear Programming Method for Superhydrophobic Surface.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Nithi Atthi , On-uma Nimittrakoolchai , Panruthai Duagnum , Sitthisuntorn Supothina , Charndet Hruanun , Amporn Poyai , นิธิ อัตถิ , อรอุมา นิมิตรตระกูลชัย , สิทธิสุนทร สุโพธิณะ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย . 2551. "Study of Optimization Patterning Size in Photolithography Process by Using Linear Programming Method for Superhydrophobic Surface".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Nithi Atthi , On-uma Nimittrakoolchai , Panruthai Duagnum , Sitthisuntorn Supothina , Charndet Hruanun , Amporn Poyai , นิธิ อัตถิ , อรอุมา นิมิตรตระกูลชัย , สิทธิสุนทร สุโพธิณะ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย . "Study of Optimization Patterning Size in Photolithography Process by Using Linear Programming Method for Superhydrophobic Surface."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2551. Print.
Nithi Atthi , On-uma Nimittrakoolchai , Panruthai Duagnum , Sitthisuntorn Supothina , Charndet Hruanun , Amporn Poyai , นิธิ อัตถิ , อรอุมา นิมิตรตระกูลชัย , สิทธิสุนทร สุโพธิณะ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย . Study of Optimization Patterning Size in Photolithography Process by Using Linear Programming Method for Superhydrophobic Surface. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2551.