ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Optoelectronic thin film coating by electron beam evaporation with ion-assisted deposition

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Optoelectronic thin film coating by electron beam evaporation with ion-assisted deposition
นักวิจัย : Anurat Wisitsora-at , Parot Burapajit , Viyapol Phatanasettakul , Chuwit Pakabut , Pongpan Chindaudom , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , ภรต บุรพจิต , วิยะพล พัฒนะเศรษฐกุล , ชูวิทย์ โภคบุตร , พงศ์พันธ์ จินดาอุดมv
คำค้น : Electrochromics , Indium tin oxide , Ion assisted deposition , Optical physics , Optics and opto-electronic physics , Optoelectronics , Physical sciences , Smart windows , Thin films. ฟิล์มบาง , Transparent conducing oxide , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ , ออปโตอิเล็กทรอนิกส์
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2546
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/20407
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

Thin film coating by electronic electron beam evaporation with ion assisted deposition (IAD) have been developed for optoelectronic applications. The thin film coating with IAD of Indium Tin Oxide (ITO), the most widely used transparent conducting oxide in optoelectronics, has been studied. The effect of two IAD deposition parameters, deposition rate and substrate temperature, on the optical and electrical properties of ITO thin film were investigated. For the effect of deposition rate, the optimal luminous transmittances of ~86.8% was obtained with deposition rate at or below ~1.4 Å/s. Correspondingly, the minimum resistivity of 8´10-4 W-cm was obtained at deposition rate of ~1.4 Å/s. The resistivity would increase especially at lower deposition rate. Regarding to the effect of substrate temperature, the visible transmittance of the film did not significantly depend on the substrate temperature. However, the resistivity of ITO thin film rapidly decreases as the substrate temperature increases and reaches a minimum value of ~6´10-4 W-cm for substrate temperature at or above 160 °C. Therefore, the deposition rate of 1.4 Å/s and the substrate temperature of 160 °C are the optimum deposition parameters that produce ITO thin film with high transmittance of ~85% and low resistivity of ~6´10-4 W-cm. Finally, the application of ITO in smart windows, electrochromic devices, has been demonstrated. The optical modulation characteristics of WO3 electrochromic devices have also been measured. It was found that WO3 electrochromic device in colored state could effectively prevent heat (IR) transmission and partially transmit light in the blue color of visible region. / Thin film coating by electronic electron beam evaporation with ion assisted deposition (IAD) have been developed for optoelectronic applications. The thin film coating with IAD of Indium Tin Oxide (ITO), the most widely used transparent conducting oxide in optoelectronics, has been studied. The effect of two IAD deposition parameters, deposition rate and substrate temperature, on the optical and electrical properties of ITO thin film were investigated. For the effect of deposition rate, the optimal luminous transmittances of ~86.8% was obtained with deposition rate at or below ~1.4 Å/s. Correspondingly, the minimum resistivity of 8´10-4 W-cm was obtained at deposition rate of ~1.4 Å/s. The resistivity would increase especially at lower deposition rate. Regarding to the effect of substrate temperature, the visible transmittance of the film did not significantly depend on the substrate temperature. However, the resistivity of ITO thin film rapidly decreases as the substrate temperature increases and reaches a minimum value of ~6´10-4 W-cm for substrate temperature at or above 160 °C. Therefore, the deposition rate of 1.4 Å/s and the substrate temperature of 160 °C are the optimum deposition parameters that produce ITO thin film with high transmittance of ~85% and low resistivity of ~6´10-4 W-cm. Finally, the application of ITO in smart windows, electrochromic devices, has been demonstrated. The optical modulation characteristics of WO3 electrochromic devices have also been measured. It was found that WO3 electrochromic device in colored state could effectively prevent heat (IR) transmission and partially transmit light in the blue color of visible region.

บรรณานุกรม :
Anurat Wisitsora-at , Parot Burapajit , Viyapol Phatanasettakul , Chuwit Pakabut , Pongpan Chindaudom , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , ภรต บุรพจิต , วิยะพล พัฒนะเศรษฐกุล , ชูวิทย์ โภคบุตร , พงศ์พันธ์ จินดาอุดมv . (2546). Optoelectronic thin film coating by electron beam evaporation with ion-assisted deposition.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Anurat Wisitsora-at , Parot Burapajit , Viyapol Phatanasettakul , Chuwit Pakabut , Pongpan Chindaudom , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , ภรต บุรพจิต , วิยะพล พัฒนะเศรษฐกุล , ชูวิทย์ โภคบุตร , พงศ์พันธ์ จินดาอุดมv . 2546. "Optoelectronic thin film coating by electron beam evaporation with ion-assisted deposition".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Anurat Wisitsora-at , Parot Burapajit , Viyapol Phatanasettakul , Chuwit Pakabut , Pongpan Chindaudom , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , ภรต บุรพจิต , วิยะพล พัฒนะเศรษฐกุล , ชูวิทย์ โภคบุตร , พงศ์พันธ์ จินดาอุดมv . "Optoelectronic thin film coating by electron beam evaporation with ion-assisted deposition."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2546. Print.
Anurat Wisitsora-at , Parot Burapajit , Viyapol Phatanasettakul , Chuwit Pakabut , Pongpan Chindaudom , อนุรัตน์ วิศิษฏ์สรอรรถ , ภรต บุรพจิต , วิยะพล พัฒนะเศรษฐกุล , ชูวิทย์ โภคบุตร , พงศ์พันธ์ จินดาอุดมv . Optoelectronic thin film coating by electron beam evaporation with ion-assisted deposition. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2546.