ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

The Influence of Chromium Film Thickness on Photomask on Light Transmission for 3D-Lithography Application

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : The Influence of Chromium Film Thickness on Photomask on Light Transmission for 3D-Lithography Application
นักวิจัย : Nithi Atthi , Wutthinan Jeamsaksiri , Chuckaphun Aramphongphun , Jirawat Jantawong , Charndet Hruanun , Amporn Poyai , นิธิ อัตถิ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , จิรวัฒน์ จันต๊ะวงค์ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย
คำค้น : 3-D Microstructure , Chromium thin film , Electrical and electronic engineering , Electrical engineering , Engineering and technology , Gray-scale lithography , MEMS , Multi-exposure technique , Non-vertical sidewall profile , Photomask , กระบวนการถ่ายแบบลายวงจรแบบเกรย์สเกล , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ , สาขาวิศวกรรมศาสตร์และอุตสาหกรรมวิจัย , เครื่องจักรกลไฟฟ้าจุลภาค , โครงสร้างจุลภาคสามมิติ
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2550
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/6484
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

The invention opens an alternative for 3-D structure patterning on the same substrate with a single exposure. The technique resembles the standard photomask making technique as the Binary Intensity Mask (BIM), however with multiple-etching steps to form varying thickness Chromium or other opaque film on mask. Different opaque film thickness possesses different light transmissibility level. Intense light can get through thinner opaque area than thicker opaque area on mask. This allows 3-D pattern generation on the substrate when using such a Multi-Film Thickness mask (MFT-mask). This technique could create similar result to that produced by the Gray-scale photomask technique, however with vertical sidewall slope profile. The advantage over the gray-scale mask is the technique that does not need to have lower desired pattern resolution than that of the lithography tool. This tends to be economical for making MEMS.

บรรณานุกรม :
Nithi Atthi , Wutthinan Jeamsaksiri , Chuckaphun Aramphongphun , Jirawat Jantawong , Charndet Hruanun , Amporn Poyai , นิธิ อัตถิ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , จิรวัฒน์ จันต๊ะวงค์ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย . (2550). The Influence of Chromium Film Thickness on Photomask on Light Transmission for 3D-Lithography Application.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Nithi Atthi , Wutthinan Jeamsaksiri , Chuckaphun Aramphongphun , Jirawat Jantawong , Charndet Hruanun , Amporn Poyai , นิธิ อัตถิ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , จิรวัฒน์ จันต๊ะวงค์ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย . 2550. "The Influence of Chromium Film Thickness on Photomask on Light Transmission for 3D-Lithography Application".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
Nithi Atthi , Wutthinan Jeamsaksiri , Chuckaphun Aramphongphun , Jirawat Jantawong , Charndet Hruanun , Amporn Poyai , นิธิ อัตถิ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , จิรวัฒน์ จันต๊ะวงค์ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย . "The Influence of Chromium Film Thickness on Photomask on Light Transmission for 3D-Lithography Application."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2550. Print.
Nithi Atthi , Wutthinan Jeamsaksiri , Chuckaphun Aramphongphun , Jirawat Jantawong , Charndet Hruanun , Amporn Poyai , นิธิ อัตถิ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , จิรวัฒน์ จันต๊ะวงค์ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย . The Influence of Chromium Film Thickness on Photomask on Light Transmission for 3D-Lithography Application. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2550.