| ชื่อเรื่อง | : | A Comparison of One-step Lithography by using Multi-Film Thickness Mask with Gray-scale Mask and Multi-exposure Technique |
| นักวิจัย | : | Nithi Atthi , Wutthinan Jeamsaksiri , Chuckaphun Aramphongphun , Patcharaporn Yanpirat , Jirawat Jantawong , Charndet Hruanun , นิธิ อัตถิ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , พัชราภรณ์ ญาณภิรัต , จิรวัฒน์ จันต๊ะวงค์ , ชาญเดช หรูอนันต์ |
| คำค้น | : | 3-D Microstructure , Chromium thin film , Electrical and electronic engineering , Electrical engineering , Engineering and technology , Gray-scale lithography , MEMS , Multi-exposure technique , Non-vertical sidewall profile , Photomask , กระบวนการถ่ายแบบลายวงจรแบบเกรย์สเกล , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ , สาขาวิศวกรรมศาสตร์และอุตสาหกรรมวิจัย , เครื่องจักรกลไฟฟ้าจุลภาค , โครงสร้างจุลภาคสามมิติ |
| หน่วยงาน | : | สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ |
| ผู้ร่วมงาน | : | - |
| ปีพิมพ์ | : | 2550 |
| อ้างอิง | : | http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/6481 |
| ที่มา | : | - |
| ความเชี่ยวชาญ | : | - |
| ความสัมพันธ์ | : | - |
| ขอบเขตของเนื้อหา | : | - |
| บทคัดย่อ/คำอธิบาย | : | This paper reports a 3-D microstructure forming technique by inventing a new photomask making technique. This new mask is called Multi-Film Thickness mask (MFT mask). The paper also includes experiments by other two types of 3-D microstructure forming: (i) multi-dose lithography and (ii) Gray Scale Lithography mask (GSL mask). The MFT mask is proved to be economical for the lithography process of 3-D microstructure forming, which is typically applicable to the making of MicroElectro Mechanical Systems (MEMS). A limitation of the MFT mask is that only 3-D microstructures with vertical sidewall profiles can be made. |
| บรรณานุกรม | : |
Nithi Atthi , Wutthinan Jeamsaksiri , Chuckaphun Aramphongphun , Patcharaporn Yanpirat , Jirawat Jantawong , Charndet Hruanun , นิธิ อัตถิ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , พัชราภรณ์ ญาณภิรัต , จิรวัฒน์ จันต๊ะวงค์ , ชาญเดช หรูอนันต์ . (2550). A Comparison of One-step Lithography by using Multi-Film Thickness Mask with Gray-scale Mask and Multi-exposure Technique.
ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ. Nithi Atthi , Wutthinan Jeamsaksiri , Chuckaphun Aramphongphun , Patcharaporn Yanpirat , Jirawat Jantawong , Charndet Hruanun , นิธิ อัตถิ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , พัชราภรณ์ ญาณภิรัต , จิรวัฒน์ จันต๊ะวงค์ , ชาญเดช หรูอนันต์ . 2550. "A Comparison of One-step Lithography by using Multi-Film Thickness Mask with Gray-scale Mask and Multi-exposure Technique".
ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ. Nithi Atthi , Wutthinan Jeamsaksiri , Chuckaphun Aramphongphun , Patcharaporn Yanpirat , Jirawat Jantawong , Charndet Hruanun , นิธิ อัตถิ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , พัชราภรณ์ ญาณภิรัต , จิรวัฒน์ จันต๊ะวงค์ , ชาญเดช หรูอนันต์ . "A Comparison of One-step Lithography by using Multi-Film Thickness Mask with Gray-scale Mask and Multi-exposure Technique."
ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2550. Print. Nithi Atthi , Wutthinan Jeamsaksiri , Chuckaphun Aramphongphun , Patcharaporn Yanpirat , Jirawat Jantawong , Charndet Hruanun , นิธิ อัตถิ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , จักรพันธ์ อร่ามพงษ์พันธ์ , พัชราภรณ์ ญาณภิรัต , จิรวัฒน์ จันต๊ะวงค์ , ชาญเดช หรูอนันต์ . A Comparison of One-step Lithography by using Multi-Film Thickness Mask with Gray-scale Mask and Multi-exposure Technique. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2550.
|
ridm@nrct.go.th ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย รายการโปรดที่คุณเลือกไว้
