ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมในการหมุนเคลือบชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงบนกระจกต้นแบบขนาด 6x6 นิ้ว ด้วยเทคนิคการออกแบบการทดลองแบบทากูชิ

หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมในการหมุนเคลือบชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงบนกระจกต้นแบบขนาด 6x6 นิ้ว ด้วยเทคนิคการออกแบบการทดลองแบบทากูชิ
นักวิจัย : รติพร มั่นพรหม , นิธิ อัตถิ , พีระพงศ์ ตริยเจริญ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย , Ratiporn Manpom , Nithi Atthi , Peerapong Triyacharoen , Wutthinan Jeamsaksiri , Charndet Hruanun , Amporn Poyai
คำค้น : Engineering and technology , Materials engineering , Photolithography , Photomask , Photoresist , spin coating , Taguchi DOE method , กระจกต้นแบบ , กระบวนการถ่ายแบบลายวงจร , การหมุนเคลือบ , การออกแบบ , การออกแบบการทดลองด้วยวิธีทากูชิ , น้ำยาไวแสง , ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ , สาขาวิศวกรรมศาสตร์และอุตสาหกรรมวิจัย
หน่วยงาน : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2550
อ้างอิง : http://www.nstda.or.th/thairesearch/node/6472
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

งานวิจัยนี้ศึกษาสภาวะที่เหมาะสมสำหรับตัวแปร 8 ตัว ในการเคลือบน้ำยาไวแสงชนิดบวก Shipley S1805 ด้วยวิธีการหมุนเคลือบบนกระจกต้นแบบขนาด 6x6 นิ้ว โดยใช้วิธีการออกแบบการทดลองด้วยวิธีทากูชิแบบ L27 (38) เพื่อลดจำนวนการทดลองจาก 6561 การทดลอง เหลือเพียง 54 การทดลอง จากการวิเคราะห์แผนภูมิผลกระทบหลักของค่า signal-to-noise ratio (SNR หรือ S/N) พบว่าเงื่อนไขที่สามารถสร้างชั้นฟิล์มฯน้ำยาไวแสงเบอร์ Shipley s1805 ที่มีความหนาและสม่ำเสมอตามที่ต้องการมากที่สุด คือ จ่ายน้ำยาไวแสงเป็นเวลา 4.5 วินาที จากนั้นหมุนชิ้นงานที่ความเร็ว 800 รอบต่อนาที เป็นเวลา 5 วินาที แล้วใช้ความเร่ง 500 รอบต่อนาทีต่อวินาที ไปที่ความเร็ว 2000 รอบต่อนาที หมุนต่อเนื่องเป็นเวลา 90 วินาที ที่อัตราการดูดไอเสีย 300 ปาสคาล แล้วอบชิ้นงานที่อุณหภูมิ 100 องศาเซลเซียส เป็นเวลา 90 วินาที ซึ่งสามารถคำนวณความหนาของชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงได้คือ 5311±56 อังสตรอม และจากการวิเคราะห์ค่าความแปรปรวนพบว่า อัตราการจ่ายน้ำยาไวแสง ความเร็วรอบสูง และความเร่งในการหมุนเคลือบเป็นตัวแปรที่มีความสำคัญต่อทั้งความหนาและความสม่ำเสมอของชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงอย่างมีนัยสำคัญที่ระดับความเชื่อมั่น 95 เปอร์เซ็นต์

This paper focuses on the study of optimization condition to coat the positive photoresist Shipley S1805 on 6x6 inches Photomask using spin coating method. By using the L27 Taguchi’s DOE, it can reduce the experiments from 6561 to 54. Based on the major effect shown on the plot of SNR, the optimal condition was found when the photoresist was dispensed for 4.5 s. then spining up to 800 rpm for 5 s.with the acceleration of 500 rpm/s. after that ramping up to 2000 rpm for 90 s. with the exhaust force of 300 Pa. Regarding to the baking step, the suggested temperature is 100 ºC with the baking time of 90 s. Under these conditions, the forecasted film thickness and its uniformity are 5311±56 angstrom. Data being analyzed with AVOVA, the significant influence parameters of the film quality are dispensing time, second spin speed, and acceleration.

บรรณานุกรม :
รติพร มั่นพรหม , นิธิ อัตถิ , พีระพงศ์ ตริยเจริญ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย , Ratiporn Manpom , Nithi Atthi , Peerapong Triyacharoen , Wutthinan Jeamsaksiri , Charndet Hruanun , Amporn Poyai . (2550). การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมในการหมุนเคลือบชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงบนกระจกต้นแบบขนาด 6x6 นิ้ว ด้วยเทคนิคการออกแบบการทดลองแบบทากูชิ.
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
รติพร มั่นพรหม , นิธิ อัตถิ , พีระพงศ์ ตริยเจริญ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย , Ratiporn Manpom , Nithi Atthi , Peerapong Triyacharoen , Wutthinan Jeamsaksiri , Charndet Hruanun , Amporn Poyai . 2550. "การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมในการหมุนเคลือบชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงบนกระจกต้นแบบขนาด 6x6 นิ้ว ด้วยเทคนิคการออกแบบการทดลองแบบทากูชิ".
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ.
รติพร มั่นพรหม , นิธิ อัตถิ , พีระพงศ์ ตริยเจริญ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย , Ratiporn Manpom , Nithi Atthi , Peerapong Triyacharoen , Wutthinan Jeamsaksiri , Charndet Hruanun , Amporn Poyai . "การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมในการหมุนเคลือบชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงบนกระจกต้นแบบขนาด 6x6 นิ้ว ด้วยเทคนิคการออกแบบการทดลองแบบทากูชิ."
    ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ, 2550. Print.
รติพร มั่นพรหม , นิธิ อัตถิ , พีระพงศ์ ตริยเจริญ , วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ , ชาญเดช หรูอนันต์ , อัมพร โพธิ์ใย , Ratiporn Manpom , Nithi Atthi , Peerapong Triyacharoen , Wutthinan Jeamsaksiri , Charndet Hruanun , Amporn Poyai . การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมในการหมุนเคลือบชั้นฟิล์มน้ำยาไวแสงบนกระจกต้นแบบขนาด 6x6 นิ้ว ด้วยเทคนิคการออกแบบการทดลองแบบทากูชิ. ปทุมธานี : สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ; 2550.