ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications.

หน่วยงาน Nanyang Technological University, Singapore

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications.
นักวิจัย : Wang, Minrui.
คำค้น : DRNTU::Engineering::Electrical and electronic engineering::Electronic packaging. , DRNTU::Engineering::Materials::Microelectronics and semiconductor materials::Nanoelectronics and interconnects.
หน่วยงาน : Nanyang Technological University, Singapore
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2548
อ้างอิง : Wang, M. (2005). Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications. Master’s thesis, Nanyang Technological University, Singapore. , http://hdl.handle.net/10356/3674
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

This thesis focuses on the growth and characterization of carbon doped silicon oxide (SiO(C,H)) low k dielectrics for multilevel interconnect applications.

บรรณานุกรม :
Wang, Minrui. . (2548). Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications..
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Wang, Minrui. . 2548. "Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications.".
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Wang, Minrui. . "Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications.."
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2548. Print.
Wang, Minrui. . Growth and characterization of low-k dielectrics for multilevel interconnect applications.. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2548.