ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Influence of substrate heating on hole geometry and spatter area in femtosecond laser drilling of silicon

หน่วยงาน Nanyang Technological University, Singapore

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Influence of substrate heating on hole geometry and spatter area in femtosecond laser drilling of silicon
นักวิจัย : Jiao, Lishi , Moon, Seung Ki , Ng, E. Y. K. , Zheng, H. Y. , Son, H. S.
คำค้น : DRNTU::Engineering::Mechanical engineering::Kinematics and dynamics of machinery
หน่วยงาน : Nanyang Technological University, Singapore
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2557
อ้างอิง : Jiao, L., Moon, S. K., Ng, E. Y. K., Zheng, H. Y., & Son, H. S. (2014). Influence of substrate heating on hole geometry and spatter area in femtosecond laser drilling of silicon. Applied Physics Letters, 104(18), 181902-. , http://hdl.handle.net/10220/19579 , http://dx.doi.org/10.1063/1.4875928
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : Applied physics letters
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

The objective of this research is to evaluate the effects of the hole geometry and the spatter area around the drilled hole by femtosecond laser deep drilling on silicon with various temperatures. Deep through holes were produced on single crystal silicon wafer femtosecond laser at elevated temperatures ranging from 300 K to 873 K in a step of 100 K. The laser drilling efficiency is increased by 56% when the temperature is elevated from 300 K to 873 K. The spatter area is found to continuously decrease with increasing substrate temperature. The reason for such changes is discussed based on the enhanced laser energy absorption at the elevated temperature.

บรรณานุกรม :
Jiao, Lishi , Moon, Seung Ki , Ng, E. Y. K. , Zheng, H. Y. , Son, H. S. . (2557). Influence of substrate heating on hole geometry and spatter area in femtosecond laser drilling of silicon.
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Jiao, Lishi , Moon, Seung Ki , Ng, E. Y. K. , Zheng, H. Y. , Son, H. S. . 2557. "Influence of substrate heating on hole geometry and spatter area in femtosecond laser drilling of silicon".
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Jiao, Lishi , Moon, Seung Ki , Ng, E. Y. K. , Zheng, H. Y. , Son, H. S. . "Influence of substrate heating on hole geometry and spatter area in femtosecond laser drilling of silicon."
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2557. Print.
Jiao, Lishi , Moon, Seung Ki , Ng, E. Y. K. , Zheng, H. Y. , Son, H. S. . Influence of substrate heating on hole geometry and spatter area in femtosecond laser drilling of silicon. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2557.