ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

A micro-pulse process of atomic layer deposition of iron oxide using ferrocene and ozone precursors and Ti-doping

หน่วยงาน Nanyang Technological University, Singapore

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : A micro-pulse process of atomic layer deposition of iron oxide using ferrocene and ozone precursors and Ti-doping
นักวิจัย : Li, Xianglin , Ng, Chin Fan , Fan, Hong Jin
คำค้น : DRNTU::Science::Chemistry
หน่วยงาน : Nanyang Technological University, Singapore
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2556
อ้างอิง : Li, X., Ng, C. F., & Fan, H. J. (2013). A micro-pulse process of atomic layer deposition of iron oxide using ferrocene and ozone precursors and Ti-doping. Chemical Vapor Deposition, 19(4-6), 104-110. , 0948-1907 , http://hdl.handle.net/10220/16848 , http://dx.doi.org/10.1002/cvde.201207030
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : Chemical Vapor Deposition
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

Hematite (α-Fe2O3) thin films are obtained by atomic layer deposition (ALD) in the temperature range 200 − 350°C using ferrocene and ozone as the precursors. A micro-pulse process facilitates the precursor adsorption and shortens the ferrocene dose time to 5 s. When tested on Si(100) substrates, the growth rate is around 0.5 Å per cycle for the first 300 cycles, after which the growth becomes nonlinear. Interestingly, a linear growth can be maintained with a rate of ≈0.55 Å per cycle by TiO2 co-deposition (cycle ratio of TiO2/Fe2O3 = 1:20). Characterizations by X-ray photoemission spectroscopy (XPS), Raman spectroscopy (RS), and UV-vis absorption confirm the presence of the α-Fe2O3 phase after post-deposition annealing. Uniform depositions on dense ZnO nanorod arrays and anodic aluminum oxide (AAO) templates are also demonstrated, inferring that the current process is capable of coating on high (>50) aspect ratio structures.

บรรณานุกรม :
Li, Xianglin , Ng, Chin Fan , Fan, Hong Jin . (2556). A micro-pulse process of atomic layer deposition of iron oxide using ferrocene and ozone precursors and Ti-doping.
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Li, Xianglin , Ng, Chin Fan , Fan, Hong Jin . 2556. "A micro-pulse process of atomic layer deposition of iron oxide using ferrocene and ozone precursors and Ti-doping".
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Li, Xianglin , Ng, Chin Fan , Fan, Hong Jin . "A micro-pulse process of atomic layer deposition of iron oxide using ferrocene and ozone precursors and Ti-doping."
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2556. Print.
Li, Xianglin , Ng, Chin Fan , Fan, Hong Jin . A micro-pulse process of atomic layer deposition of iron oxide using ferrocene and ozone precursors and Ti-doping. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2556.