ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Comparison of electromigration simulation in test structure and actual circuit

หน่วยงาน Nanyang Technological University, Singapore

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Comparison of electromigration simulation in test structure and actual circuit
นักวิจัย : He, Feifei , Tan, Cher Ming
คำค้น : DRNTU::Engineering::Electrical and electronic engineering.
หน่วยงาน : Nanyang Technological University, Singapore
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2554
อ้างอิง : He, F.,& Tan, C. M. (2012). Comparison of electromigration simulation in test structure and actual circuit. Applied Mathematical Modelling, 36(10), 4908-4917. , 0307-904X , http://hdl.handle.net/10220/12570 , http://dx.doi.org/10.1016/j.apm.2011.12.028
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : Applied mathematical modelling
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

With the rapid increase in circuit complexity, accurate reliability simulator is necessary as reliability testing for fabricated circuit is progressively more time and resource consuming. Simple 2D electromigration (EM) simulator has many limitations and most of the 3D EM simulations in the literature are using simple line-via structure which is only part of the real circuit structure. In this paper, a thorough comparison between simple 3D line-via structure model and 3D circuit model under different test conditions is performed using class-AB amplifier as an example, and the results showed that simple line-via structure simulation may not always correctly represent the real circuit failure site.

บรรณานุกรม :
He, Feifei , Tan, Cher Ming . (2554). Comparison of electromigration simulation in test structure and actual circuit.
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
He, Feifei , Tan, Cher Ming . 2554. "Comparison of electromigration simulation in test structure and actual circuit".
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
He, Feifei , Tan, Cher Ming . "Comparison of electromigration simulation in test structure and actual circuit."
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2554. Print.
He, Feifei , Tan, Cher Ming . Comparison of electromigration simulation in test structure and actual circuit. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2554.