ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Formation of SiO2 nanocrystals in Lu2O3 high-k dielectric by pulsed laser ablation and application in memory device

หน่วยงาน Nanyang Technological University, Singapore

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Formation of SiO2 nanocrystals in Lu2O3 high-k dielectric by pulsed laser ablation and application in memory device
นักวิจัย : Yuan, C. L. , Darmawan, P. , Setiawan, Y. , Lee, Pooi See
คำค้น : -
หน่วยงาน : Nanyang Technological University, Singapore
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2549
อ้างอิง : Yuan, C. L., Darmawan, P., Setiawan, Y., & Lee, P. S. (2006). Formation of SiO2 nanocrystals in Lu2O3 high-k dielectric by pulsed laser ablation and application in memory device. Nanotechnology, 17(13), 3175-3177. , 0957-4484 , http://hdl.handle.net/10220/10537 , http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/17/13/016
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : Nanotechnology
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

We have successfully developed a method based on pulsed laser deposition (PLD) to produce SiO2 nanocrystals embedded in Lu2O3 high-k dielectric. The mean size and aerial density of the SiO2 nanocrystals embedded in Lu2O3 are estimated to be about 7 nm and 6 × 1011cm−2, respectively. This metal–oxide–semiconductor capacitor can be operated under smaller operation voltages, and exhibits a large memory window with a good retention time.

บรรณานุกรม :
Yuan, C. L. , Darmawan, P. , Setiawan, Y. , Lee, Pooi See . (2549). Formation of SiO2 nanocrystals in Lu2O3 high-k dielectric by pulsed laser ablation and application in memory device.
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Yuan, C. L. , Darmawan, P. , Setiawan, Y. , Lee, Pooi See . 2549. "Formation of SiO2 nanocrystals in Lu2O3 high-k dielectric by pulsed laser ablation and application in memory device".
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Yuan, C. L. , Darmawan, P. , Setiawan, Y. , Lee, Pooi See . "Formation of SiO2 nanocrystals in Lu2O3 high-k dielectric by pulsed laser ablation and application in memory device."
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2549. Print.
Yuan, C. L. , Darmawan, P. , Setiawan, Y. , Lee, Pooi See . Formation of SiO2 nanocrystals in Lu2O3 high-k dielectric by pulsed laser ablation and application in memory device. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2549.