ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

In situ XRD analysis of Ni(Pt)/Si(100) reactions in low temperature regime ≤400°C

หน่วยงาน Nanyang Technological University, Singapore

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : In situ XRD analysis of Ni(Pt)/Si(100) reactions in low temperature regime ≤400°C
นักวิจัย : Lee, Pooi See , Pey, Kin Leong , Mangelinck, D. , Ding, Jun , Chan, L.
คำค้น : DRNTU::Engineering::Electrical and electronic engineering
หน่วยงาน : Nanyang Technological University, Singapore
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2546
อ้างอิง : Lee, P. S., Pey, K. L., Mangelinck, D., Ding, J., & Chan, L. (2003). In situ XRD analysis of Ni(Pt)/Si(100) reactions in low temperature regime ≤400°C. Solid State Communications, 128(9-10), 325-328. , 0038-1098 , http://hdl.handle.net/10220/10506 , http://dx.doi.org/10.1016/j.ssc.2003.09.004
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : Solid state communications
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

The key feature of this paper is to highlight the use of an in situ XRD technique to the study of the initial reaction of Ni(Pt) on Si(100) isothermally. The concentration of Ni and Pt as a function of time in the low temperature range of less than 400 °C was evaluated. The XRD results show that the solid state reaction started with a outdiffusion of Ni from the Ni(Pt) alloy during the formation of Ni2Si prior to the formation of Ni(Pt)Si. This in situ technique is important for the characterization and the study of the nucleation and kinetics of the first phase formation of advanced alloy silicides.

บรรณานุกรม :
Lee, Pooi See , Pey, Kin Leong , Mangelinck, D. , Ding, Jun , Chan, L. . (2546). In situ XRD analysis of Ni(Pt)/Si(100) reactions in low temperature regime ≤400°C.
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Lee, Pooi See , Pey, Kin Leong , Mangelinck, D. , Ding, Jun , Chan, L. . 2546. "In situ XRD analysis of Ni(Pt)/Si(100) reactions in low temperature regime ≤400°C".
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Lee, Pooi See , Pey, Kin Leong , Mangelinck, D. , Ding, Jun , Chan, L. . "In situ XRD analysis of Ni(Pt)/Si(100) reactions in low temperature regime ≤400°C."
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2546. Print.
Lee, Pooi See , Pey, Kin Leong , Mangelinck, D. , Ding, Jun , Chan, L. . In situ XRD analysis of Ni(Pt)/Si(100) reactions in low temperature regime ≤400°C. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2546.