ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Effect of Ti alloying in nickel silicide formation

หน่วยงาน Nanyang Technological University, Singapore

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Effect of Ti alloying in nickel silicide formation
นักวิจัย : Setiawan, Y. , Lee, Pooi See , Tan, C. W. , Pey, Kin Leong
คำค้น : DRNTU::Engineering::Materials::Microelectronics and semiconductor materials::Thin films.
หน่วยงาน : Nanyang Technological University, Singapore
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2548
อ้างอิง : Setiawan, Y., Lee, P. S., Tan, C. W., & Pey, K. L. (2006). Effect of Ti alloying in nickel silicide formation. Thin Solid Films, 504(1-2), 153-156. , 0040-6090 , http://hdl.handle.net/10220/10500 , http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2005.09.066
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : Thin solid films
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

In the presence of interfacial oxide, an addition of 20 at.% Ti to Ni film leads to the formation of a thick TiOx layer at the Ni(Ti)/Si interface upon annealing, preventing the inter-diffusion of Ni and Si hence hindering the Ni silicide formation up to 700 °C. At 800 °C, a mixture of predominant NiSi phase with some NiSi2 grains facetted in (111) plane was observed. A different mechanism occurred for the sample with minimal oxygen contamination where Ni3Si2 was found to be stable up to 900 °C. Nevertheless, Ti addition has delayed the silicidation reaction to 600 °C.

บรรณานุกรม :
Setiawan, Y. , Lee, Pooi See , Tan, C. W. , Pey, Kin Leong . (2548). Effect of Ti alloying in nickel silicide formation.
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Setiawan, Y. , Lee, Pooi See , Tan, C. W. , Pey, Kin Leong . 2548. "Effect of Ti alloying in nickel silicide formation".
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Setiawan, Y. , Lee, Pooi See , Tan, C. W. , Pey, Kin Leong . "Effect of Ti alloying in nickel silicide formation."
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2548. Print.
Setiawan, Y. , Lee, Pooi See , Tan, C. W. , Pey, Kin Leong . Effect of Ti alloying in nickel silicide formation. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2548.