ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Formation and characterization of magnetron sputtered Ta–Si–N–O thin films.

หน่วยงาน Nanyang Technological University, Singapore

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Formation and characterization of magnetron sputtered Ta–Si–N–O thin films.
นักวิจัย : Yan, H. , Li, L. , Ho, F. Y. , Liang, M. H. , Pan, J. S. , Xu, S. , Chen, Z.
คำค้น : DRNTU::Engineering::Materials::Microelectronics and semiconductor materials::Thin films.
หน่วยงาน : Nanyang Technological University, Singapore
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2552
อ้างอิง : Yan, H., Li, L., Ho, F. Y., Liang, M. H., Pan, J. S., Xu, S., & Chen, Z. (2009). Formation and characterization of magnetron sputtered Ta-Si-N-O thin films. Thin Solid Films, 517(17), 5207-5211. , http://hdl.handle.net/10220/8204 , http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2009.03.057
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : Thin solid films
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

Tantalum silicon nitride films have good potential to be used as hard coatings and diffusion barriers. In this work, films with different composition were deposited using a magnetron sputter under varying nitrogen flow rates. The composition, microstructure, thermal stability and electrical resistivity have been investigated. In the as-deposited state, all films consist of amorphous TaSixOy, TaxOy, TaxNy and TaSix compounds. The composition of films is affected by N2 flow rate. The resistivity of the as-deposited films increases with N concentrations. At elevated temperatures, all films show good thermal stability to at least 800 °C, while film with high Si concentration is largely amorphous at 900 °C because of highly stable TaSixOy compounds. This study suggests that the TaSixOy compounds could be the key factor in enhancing thermal stability of Ta–Si–N–O films.

บรรณานุกรม :
Yan, H. , Li, L. , Ho, F. Y. , Liang, M. H. , Pan, J. S. , Xu, S. , Chen, Z. . (2552). Formation and characterization of magnetron sputtered Ta–Si–N–O thin films..
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Yan, H. , Li, L. , Ho, F. Y. , Liang, M. H. , Pan, J. S. , Xu, S. , Chen, Z. . 2552. "Formation and characterization of magnetron sputtered Ta–Si–N–O thin films.".
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Yan, H. , Li, L. , Ho, F. Y. , Liang, M. H. , Pan, J. S. , Xu, S. , Chen, Z. . "Formation and characterization of magnetron sputtered Ta–Si–N–O thin films.."
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2552. Print.
Yan, H. , Li, L. , Ho, F. Y. , Liang, M. H. , Pan, J. S. , Xu, S. , Chen, Z. . Formation and characterization of magnetron sputtered Ta–Si–N–O thin films.. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2552.