ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Phase and layer stability of Ni- and Ni(Pt)-silicides on narrow poly-Si lines

หน่วยงาน Nanyang Technological University, Singapore

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Phase and layer stability of Ni- and Ni(Pt)-silicides on narrow poly-Si lines
นักวิจัย : Lee, Pooi See , Pey, Kin Leong , Mangelinck, D. , Ding, Jun , Chi, Dong Zhi , Dai, J. Y. , Chan, L.
คำค้น : DRNTU::Engineering::Materials
หน่วยงาน : Nanyang Technological University, Singapore
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2545
อ้างอิง : Lee, P. S., Pey, K. L., Mangelick, D., Ding, J., Chi, D. Z., Dai, J. Y., et al. (2002). Phase and layer stability of Ni- and Ni(Pt)-silicides on narrow poly-Si lines. Journal of The Electrochemical Society, 149(6). , http://hdl.handle.net/10220/8059 , http://dx.doi.org/10.1149/1.1473192
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : Journal of the electrochemical society
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

The phase and morphology stability of NiSi and Ni(Pt)Si formed on the poly-Si lines and wide pads have been studied. Differences in the NiSi2 nucleation temperature and the extent of layer inversion have been analyzed. The nucleation of NiSi2 was hindered on the narrow poly-Si lines as compared to that on the large area poly-Si pads at 750°C. Stress is believed to play an important role in the delayed nucleation of NiSi2 . In addition, layer inversion was found to be less severe on the narrow poly-Si lines as compared to that on the poly-Si pads after being subjected to the same annealing condition. This is likely due to the limiting grain growth of the poly-Si in the narrow lines. Enhanced stability of Ni(Pt)Si was achieved up to 800°C on both poly-Si wide pads and narrow lines.

บรรณานุกรม :
Lee, Pooi See , Pey, Kin Leong , Mangelinck, D. , Ding, Jun , Chi, Dong Zhi , Dai, J. Y. , Chan, L. . (2545). Phase and layer stability of Ni- and Ni(Pt)-silicides on narrow poly-Si lines.
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Lee, Pooi See , Pey, Kin Leong , Mangelinck, D. , Ding, Jun , Chi, Dong Zhi , Dai, J. Y. , Chan, L. . 2545. "Phase and layer stability of Ni- and Ni(Pt)-silicides on narrow poly-Si lines".
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Lee, Pooi See , Pey, Kin Leong , Mangelinck, D. , Ding, Jun , Chi, Dong Zhi , Dai, J. Y. , Chan, L. . "Phase and layer stability of Ni- and Ni(Pt)-silicides on narrow poly-Si lines."
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2545. Print.
Lee, Pooi See , Pey, Kin Leong , Mangelinck, D. , Ding, Jun , Chi, Dong Zhi , Dai, J. Y. , Chan, L. . Phase and layer stability of Ni- and Ni(Pt)-silicides on narrow poly-Si lines. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2545.