ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Low temperature physical-chemical vapor deposition of Ti-Si-N-O barrier films

หน่วยงาน Nanyang Technological University, Singapore

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Low temperature physical-chemical vapor deposition of Ti-Si-N-O barrier films
นักวิจัย : Ee, Elden Yong Chiang , Chen, Z. , Lu, T. M. , Dong, Zhili , Law, S. B.
คำค้น : DRNTU::Engineering::Materials
หน่วยงาน : Nanyang Technological University, Singapore
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2549
อ้างอิง : Ee, E. Y. C., Chen, Z., Lu, T. M., Dong, Z. L., & Law, S. B. (2006). Low temperature physical-chemical vapor deposition of Ti-Si-N-O barrier films. Electrochemical and solid state letters, 9(3). , http://hdl.handle.net/10220/7700 , http://dx.doi.org/ 10.1149/1.2166510
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : Electrochemical and solid state letters
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

Ti-Si-N-O films were grown by radio frequency reactive magnetron sputtering of a titanium target with nitrogen and silane gases introduced at a temperature of 40°C. X-ray diffraction and X-ray photoelectron spectroscopy results show that Ti-N, Si-N, Ti-Si, Ti-O, Si-O, and Si-N-O compounds are formed. High-resolution-transmission-electron-microscopy reveals that the film consists of Ti-N, Si-N, Ti-Si nanocrystals embedded in an amorphous Ti-O, Si-O, and Si-N-O matrix. This type of microstructure gives rise to very high stability against copper diffusion under bias temperature stressing (BTS) compared to binary barrier materials. The BTS result shows that Ti24Si12N35O29 film can effectively block copper ion diffusion for up to 200°C at 0.5 MV/cm.

บรรณานุกรม :
Ee, Elden Yong Chiang , Chen, Z. , Lu, T. M. , Dong, Zhili , Law, S. B. . (2549). Low temperature physical-chemical vapor deposition of Ti-Si-N-O barrier films.
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Ee, Elden Yong Chiang , Chen, Z. , Lu, T. M. , Dong, Zhili , Law, S. B. . 2549. "Low temperature physical-chemical vapor deposition of Ti-Si-N-O barrier films".
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore.
Ee, Elden Yong Chiang , Chen, Z. , Lu, T. M. , Dong, Zhili , Law, S. B. . "Low temperature physical-chemical vapor deposition of Ti-Si-N-O barrier films."
    กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore, 2549. Print.
Ee, Elden Yong Chiang , Chen, Z. , Lu, T. M. , Dong, Zhili , Law, S. B. . Low temperature physical-chemical vapor deposition of Ti-Si-N-O barrier films. กรุงเทพมหานคร : Nanyang Technological University, Singapore; 2549.