ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Effects of filtered cathodic vacuum arc deposition (FCVAD) conditions on photovoltaic TiO2 films

หน่วยงาน มหาวิทยาลัยเชียงใหม่

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Effects of filtered cathodic vacuum arc deposition (FCVAD) conditions on photovoltaic TiO2 films
นักวิจัย : Aramwit C. , Intarasiri S. , Bootkul D. , Tippawan U. , Supsermpol B. , Seanphinit N. , Ruangkul W. , Yu L.D.
คำค้น : -
หน่วยงาน : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2557
อ้างอิง : 01694332 , 10.1016/j.apsusc.2014.01.097 , ASUSE , http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-84903309650&partnerID=40&md5=6130c4ef285a9c35e5e50f91a6557f74 , http://cmuir.cmu.ac.th/handle/6653943832/4744
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

Titanium dioxide (TiO2) films for photovoltaic applications were synthesized using filtered cathodic vacuum arc deposition (FCVAD) technique. Various deposition conditions were tested for an optimal film formation. The conditions included the oxygen (O2) pressure which was varied from a base pressure 10-5 to 10-4, 10-3, 10 -2 and 10-1 Torr, sample holder bias varied using 0 or -250 V, deposition time varied from 10, 20 to 30 min, and deposition distance varied from 1 to 3 cm. The deposited films were also annealed and compared with unannealed ones. The films under various conditions were characterized using optical microscopy, scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscopy (AFM), energy-dispersive X-ray spectroscopy (EDS) and Raman spectroscopy techniques. The film transparency increased and thickness decreased to a nanoscale with increasing of the O2 pressure. The transparent deposited films contained stoichiometric titanium and oxygen under the medium O2 pressure. The as-deposited films were TiO2 containing some rutile but no anatase which needed annealing to form. © 2014 Elsevier B.V.

บรรณานุกรม :
Aramwit C. , Intarasiri S. , Bootkul D. , Tippawan U. , Supsermpol B. , Seanphinit N. , Ruangkul W. , Yu L.D. . (2557). Effects of filtered cathodic vacuum arc deposition (FCVAD) conditions on photovoltaic TiO2 films.
    เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ .
Aramwit C. , Intarasiri S. , Bootkul D. , Tippawan U. , Supsermpol B. , Seanphinit N. , Ruangkul W. , Yu L.D. . 2557. "Effects of filtered cathodic vacuum arc deposition (FCVAD) conditions on photovoltaic TiO2 films".
    เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ .
Aramwit C. , Intarasiri S. , Bootkul D. , Tippawan U. , Supsermpol B. , Seanphinit N. , Ruangkul W. , Yu L.D. . "Effects of filtered cathodic vacuum arc deposition (FCVAD) conditions on photovoltaic TiO2 films."
    เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ , 2557. Print.
Aramwit C. , Intarasiri S. , Bootkul D. , Tippawan U. , Supsermpol B. , Seanphinit N. , Ruangkul W. , Yu L.D. . Effects of filtered cathodic vacuum arc deposition (FCVAD) conditions on photovoltaic TiO2 films. เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ ; 2557.