ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Aliphatic dithiocarboxylic acids: New adsorbates for soft lithographic patterning

หน่วยงาน มหาวิทยาลัยเชียงใหม่

รายละเอียด

ชื่อเรื่อง : Aliphatic dithiocarboxylic acids: New adsorbates for soft lithographic patterning
นักวิจัย : Lee T.-C. , Chen P.-C. , Lai T.-Y. , Tuntiwechapikul W. , Kim J.-H. , Lee T.R.
คำค้น : -
หน่วยงาน : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่
ผู้ร่วมงาน : -
ปีพิมพ์ : 2551
อ้างอิง : 01694332 , 10.1016/j.apsusc.2008.05.192 , ASUSE , http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-49549111582&partnerID=40&md5=90d95f85716dfe0c7507a3003643ef70 , http://cmuir.cmu.ac.th/handle/6653943832/2389
ที่มา : -
ความเชี่ยวชาญ : -
ความสัมพันธ์ : -
ขอบเขตของเนื้อหา : -
บทคัดย่อ/คำอธิบาย :

This paper describes an initial evaluation of the use of aliphatic dithiocarboxylic acids (ADTCAs) as transient protecting agents in soft lithographic patterning, also known as microcontact printing (μCP). Surfaces micropatterned using ADTCA-based inks (C10-C16) were compared to that patterned using a standard hexadecanethiol ink. The patterns were characterized by scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM). Etch-removal studies of SAM-coated gold substrates found that the longer chain-length ADTCAs (C13-C16) provide better protection against etching than the shorter chain-length ADTCAs (C10-C12). These studies demonstrate that ADTCA-derived SAMs can be used as effective resists for soft lithographic applications. © 2008 Elsevier B.V. All rights reserved.

บรรณานุกรม :
Lee T.-C. , Chen P.-C. , Lai T.-Y. , Tuntiwechapikul W. , Kim J.-H. , Lee T.R. . (2551). Aliphatic dithiocarboxylic acids: New adsorbates for soft lithographic patterning.
    เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ .
Lee T.-C. , Chen P.-C. , Lai T.-Y. , Tuntiwechapikul W. , Kim J.-H. , Lee T.R. . 2551. "Aliphatic dithiocarboxylic acids: New adsorbates for soft lithographic patterning".
    เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ .
Lee T.-C. , Chen P.-C. , Lai T.-Y. , Tuntiwechapikul W. , Kim J.-H. , Lee T.R. . "Aliphatic dithiocarboxylic acids: New adsorbates for soft lithographic patterning."
    เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ , 2551. Print.
Lee T.-C. , Chen P.-C. , Lai T.-Y. , Tuntiwechapikul W. , Kim J.-H. , Lee T.R. . Aliphatic dithiocarboxylic acids: New adsorbates for soft lithographic patterning. เชียงใหม่ : มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ ; 2551.