ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

Setiawan, Y.
หน่วยงาน Nanyang Technological University, Singapore
จำนวนงานวิจัยจำแนกรายปี
บุคคลที่เคยร่วมงานวิจัย
ความเชี่ยวชาญ
บุคคลที่เคยร่วมงานวิจัย
# นักวิจัย ร่วมงาน
1 Lee, Pooi See 16
2 Darmawan, P. 7
3 Pey, Kin Leong 7
4 Yuan, C. L. 4
5 Wang, X. C. 4
6 Lim, G. C. 3
7 Ma, Jan 2
8 Chi, Dong Zhi 2
9 Tan, Eu Jin 2
10 Balakumar, S. 2
11 Zhang, T. 1
12 Chan, T. K. 1
13 Seng, H. L. 1
14 Tan, B. L. 1
15 Chow, F. L. 1
16 Hoe, Keat Mun 1
17 Kasim, J. 1
18 Tee, X. Y. 1
19 Ni, Zhenhua 1
20 You, Y. M. 1
21 Lai, J. C. 1
22 Yang, P. 1
23 Yiew, Daphne Q. F. 1
ปี
# พ.ศ. จำนวน
1 2552 1
2 2551 3
3 2550 5
4 2549 5
5 2548 2
ผลงานวิจัย
# หัวเรื่อง
ปี พ.ศ. 2552
1 Textured Ni(Pt) germanosilicide formation on a condensed Si1-xGex/Si substrate
ปี พ.ศ. 2551
2 Laser-induced melt-mediated Ni(Pt) germanosilicide formation on condensed Si1-xGex/Si substrates
3 Lu2O3/Al2O3 gate dielectrics for germanium metal-oxide-semiconductor devices
4 Plasmon-enhanced polarized Raman spectroscopy for sensitive surface characterization
ปี พ.ศ. 2550
5 Materials and electrical characterization of Er(Si1-xGex)(2-y) films formed on Si1-xGex(001) (x=0-0.3) via rapid thermal annealing
6 Effect of low fluence laser annealing on ultrathin Lu2O3 high-k dielectric
7 Laser-induced Ni(Pt) germanosilicide formation through a self-limiting melting phenomenon on Si1-xGex/Si heterostructure
8 Nickel silicide formation using multiple-pulsed laser annealing
9 Thermal stability of rare-earth based ultrathin Lu2O3 for high-k dielectrics
ปี พ.ศ. 2549
10 Formation of SrTiO3 nanocrystals in amorphous Lu2O3 high-k gate dielectric for floating gate memory application
11 LaAlO3 nanocrystals embedded in amorphous Lu2O3 high-k gate dielectric for floating gate memory application
12 Laser induced Ni(Ti) silicide formation
13 Formation of SiO2 nanocrystals in Lu2O3 high-k dielectric by pulsed laser ablation and application in memory device
14 A simple approach to form Ge nanocrystals embedded in amorphous Lu2O3 high-k gate dielectric by pulsed laser ablation
ปี พ.ศ. 2548
15 Effect of Ti alloying in nickel silicide formation
16 Erbium silicidation on SiGe for advanced MOS application