ridm@nrct.go.th   ระบบคลังข้อมูลงานวิจัยไทย   รายการโปรดที่คุณเลือกไว้

ภาวดี มีสรรพวงศ์
หน่วยงาน สำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ
จำนวนงานวิจัยจำแนกรายปี
บุคคลที่เคยร่วมงานวิจัย
ความเชี่ยวชาญ
บุคคลที่เคยร่วมงานวิจัย
# นักวิจัย ร่วมงาน
1 อัมพร โพธิ์ใย 18
2 ชาญเดช หรูอนันต์ 13
3 รัตนาวรรณ เมนะเนตร 12
4 อนุชา เรืองพานิช 7
5 นิภาพรรณ กลั่นเงิน 6
6 อวิรุทธิ์ ศรีสุวรรณ์ 6
7 เอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ 5
8 จักรรินทร์ ลัทธิเดช 4
9 Anucha Ruangphanit 3
10 Pawadee Meesapawong 3
11 Amporn Poyai 3
12 จักรพงศ์ ศุภเดช 3
13 นิธิ อัตถิ 3
14 อภิรักษ์ ผันเขียว 3
15 วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ 2
16 นพพล พงษ์พันธุ์จันทรา 2
17 Nopphon Phongphanchanthra 2
18 คมสัน บุณยวณิชย์ 2
19 ศิโรรุจ ปินอิน 2
20 นิมิต สมหวัง 2
21 การุณ แซ่จอก 2
22 กรรณิกา อุประโคตร 1
23 อิทธิ ฤทธาภรณ์ 1
24 สันชัย หาญสูงเนิน 1
25 Sanchai Hansoongneon 1
26 โอภาส ตรีทวีศักดิ์ 1
27 สรายุทธ วิศวแสวงสุข 1
28 เกษม ตันธนะศิริวงศ์ 1
29 สุวรรณ ยานุวงศ์ 1
30 ชำนาญ ปัญญาใส 1
31 ชนะ ลีภัทรพงศ์พันธ์ 1
32 วิน บรรจงปรุ 1
33 เฉลิมชัย เอี่ยมสอาด 1
34 ธงชัย ธงวิจิตรมณี 1
ปี
# พ.ศ. จำนวน
1 2551 7
2 2550 8
3 2549 2
4 2546 1
5 543 2
ผลงานวิจัย
# หัวเรื่อง
ปี พ.ศ. 2551
1 กระบวนการสร้างชั้นลายวงจรเพื่อผลิตอุปกรณ์หน่วยความจำของโครงการ ASTRI-2
2 การสร้างส่วนเชื่อมต่อของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือดด้วยกระบวนการถ่ายย่อแบบ
3 การหาตำแหน่งตัวซ้อนทับบนชั้นลายวงจรจากการออกแบบและการตรวจสอบการซ้อนทับของชั้นลายวงจรด้วยลายเวอร์เนียร์
4 สูตรการกัดซิลิคอนโดยมีน้ำยาไวแสงเป็นชั้นป้องกัน
5 สูตรการกัดซิลิคอนโดยมีซิลิคอนไดออกไซด์เป็นชั้นป้องกัน
6 ผลกระทบของต้นแบบลายวงจรแบบฟิล์มใสต่อคุณภาพของลายวงจร
7 กระบวนการถ่ายย่อแบบลายวงจรสำหรับแมกนีโตทรานซิสเตอร์ พี เอ็น พี หลังกระบวนการสร้างชั้นโลหะ
ปี พ.ศ. 2550
8 อภิธานศัพท์การออกแบบและผลิตวงจรรวม
9 กระบวนการถ่ายย่อแบบ และ Alignment Mark เพื่อสร้างชั้นตัวนำของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด
10 การบริหารจัดการวัสดุอุปกรณ์ของศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์ด้วยเว็บแอพพลิเคชั่น V 2.0
11 กระบวนการถ่ายย่อแบบลายวงจรสำหรับแมกนีโตทรานซิสเตอร์ พี เอ็น พี ก่อนกระบวนการสร้างชั้นโลหะ
12 การพัฒนากระบวนการถ่ายย่อแบบเพื่อสร้างสเตรนเกจของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด
13 การพัฒนากระบวนการถ่ายย่อแบบ สำหรับ Memory Device
14 กระบวนการสร้าง Alignment Layer ของสายการผลิต Magnetic Sensor
15 การพัฒนากระบวนการถ่ายย่อแบบ เพื่อสร้างโพลีซิลิกอนเมมเบรนของเซนเซอร์วัดแรงดันเลือด
ปี พ.ศ. 2549
16 Devices Design, Fabrication and Characterizations of Submicron MOSFET for 0.8 CMOS Technology Development
17 The Subthreshold Leakage Current of 0.8 micron CMOS Technology
ปี พ.ศ. 2546
18 กระบวนการผลิตวงจรรวม
ปี พ.ศ. ไม่ระบุ
19 Impact of lithography overlay on 0.8 micron CMOS layout design rules
20 Planning innovation orientation in public research and development organizations: Using a combined Delphi and Analytic Hierarchy Process approach